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名称:超纯氨气      型号:

高纯氨

高纯氨主要应用于新型光电子材料领域,是mocvd技术制备gan的重要基础材料。由gan生产高灵敏度蓝光发光二级管和蓝光激光器,以及其它相关电子器件,是国内外都在抢占的产业。高纯氨还是制备三氟化氮、氮化硅、的基础材料,是生产超高级氮的原料气。此外,液氨广泛地应用于半导体工业、冶金工业,以及需要保护气氛的其他工业和科学研究中。

 商品详细介绍    
 a colorless,toxic,flammable,corrosive,liquefied gas.(一种无色,有毒,可燃,具腐蚀性的可液化气体)
 formula(分子式): nh3
 molecular weight(分子量): 17.03g/mol
 boiling point(沸点): -33.4℃ 28.1°f
 melting point(熔点): -77.7℃ 107.9°f
 vapor pressure(蒸汽压): 888kpa(21.1℃) 129psia(70°f)
 specific volume(比容): 1.41m3/kg(21.1℃,101.325kpa) 
22.6ft3/lb(70°f,14.696psia)
 lower flammable limit(最低可燃性含量): 15%
 upper flammable limit(最高可燃性含量): 30%
 threshold limit value(人体的最高容许浓度): 25ppm
 dot classification(dot类别): 2.2(flammable gas)(可燃性气体)
 dot lable(dot标签): flammable gas(可燃性气体)

 

 

 电子工业用气体  氨(gb/t14601-2009)
 项目名称 电子级 光电子级
 氨(nh3)纯度(体积分数)/10-2         ≥  99.9995  99.99994
 氧(o2)含量(体积分数)/10-6          <  1  0.1
 氮(n2)含量(体积分数)/10-6                1  —
 氢(h2)含量(体积分数)/10-6          <  —  0.1
 一氧化碳(co)含量(体积分数)/10-6        1  0.05
 二氧化碳(co)含量(体积分数)/10-6        —  0.1
 烃(c1~c3)含量(体积分数)/10-6           1  0.05
 水分(h2o)含量(体积分数)/10-6            3  0.2
 总杂质含量(体积分数)/10-6                   5  0.6

 

 

 应用:晶圆清洗、在cvd过程中生成氮化硅或氮化镓等薄膜

 

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